主催 （社）精密工学会
企画 精密工学会画像応用技術専門委員会
「外観検査アルゴリズムコンテスト2006」最優秀賞, 優秀賞は以下の方々の作品に決定しました！（敬称略）
◎最優秀賞 横山正高、岸村正嗣（住友電気工業（株） ）
○優秀賞 岡部良二、加茂勝己、早川明夫（日本電子システムテクノロジー（株））
○優秀賞 王鄭耀、寧兆彬、施 俊（法視特（上海）画像科技有限公司）、馬 嶺（（株）ファースト）
※全13件の作品提出（企業10, 大学3）があり, テスト画像を用いた性能評価（欠陥の有無, 欠陥位置, 検査時間）を行った結果.
次回、「外観検査アルゴリズムコンテスト2007」へのエントリーをお待ちしております.
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画像応用技術専門委員会では，画像を用いた外観検査技術の発展を図るため，研究者・技術者が共通で使える外観検査画像データベースの構築を進めつつ，その一環として外観検査アルゴリズムコンテストを2001年より実施しております．実際の製造現場で生じた画像を使用した実利用に近い課題設定を特徴とし,広く認知されるようになって来ました．今年度は第６回目として，「ランダムパターン上の顕著な欠陥の検出」という課題で，様々なパターンを背景として，比較的顕著な見れば分かるような欠陥を検出するアルゴリズムのコンテストを実施します．優秀作品は，12月に開催されるビジョン技術の実利用ワークショップ（ViEW2006）で表彰致します．また，今回からViEW2006との連携をさらに強め，本コンテストに関するセッションでの成果発表を検討しております．検査画像と詳しい応募要領は，本ＨＰで公開いたします．応募資格は問いません．腕に覚えのある多くのエンジニアや学生の方々のご応募をお待ち致しております．
【課題名】：「ランダムパターン上の顕著な欠陥の検出」
検査対象：パターン付きウエハ
検査目的：様々なパターン上で，見れば明らかに分かるような欠陥を検出する
評価項目 欠陥の検出率，虚報率および検査時間
【検査対象画像の例】※画像データ
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※画像データは近日中に本ＨＰ上にて公開予定です。
・エントリー締め切り： 2006年7月31日（月）
※下記申込フォームに必要事項をご記入の上，電子メイル，FAXにて下記宛先までお申し込み下さい．
・参加申込フォームはこちら（MS-Word形式）
申込先 〒182−0026 東京都調布市小島町1-11-6 エンケ102
（株）キャンパスクリエイト内
画像応用技術専門委員会「アルゴリズムコンテスト」事務局
電話：0424−41−1809, FAX：0424−41−1809
E-mail：gazoh@campuscreate.com
応募作品 締め切り 2006年9月25日（月）
下記提出物を電子メイルの添付ファイルなどで事務局にお送りください．
・プログラム実行ファイル（動作指示書添付）
・アルゴリズム概要説明書
結果発表 ビジョン技術の実利用ワークショップ（ViEW2006）（2006年12月7，8日）
およびホームページ上．
楜澤 信（委員長：旭硝子），青木義満（幹事：芝浦工大），北川克一（幹事：東レエンジニアリング），浅野敏郎（広島工大），伊藤誠也（日立製作所），梅田和昇（中央大），大西浩之（大日本スクリーン），恩田寿和（明電舎），加藤邦人（岐阜大），秦 清治（香川大），広瀬 修（住友化学），脇谷康一（松下電器）
【関連ホームページ】
外観検査アルゴリズムコンテスト2005
Last Updated on 25, March, 2005